哈西奈德乳膏

本品主要成分及其化学名称为：哈西奈德(氯氟舒松、哈西缩松)，16α，17-[（1-甲基亚乙基）双（氧）]-11β-羟基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。

本品用于接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔癣、扁平苔癣、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎（非面部）肥厚性瘢痕。

如正在使用其它药品，使用本品前应向医师或药师咨询。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感、刺痛、暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张(尤其面部)、皮肤萎缩、萎缩纹(青少年易发生)皮肤萎缩后继发紫癜、瘀斑、皮肤脆弱、多毛症、毛囊炎、粟丘疹、皮肤脱色、延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应。

对该药过敏者。由细菌、真菌、病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。溃疡性病变。痤疮、酒渣鼻。眼睑部用药(有引起青光眼的危险)。渗出性皮肤病。

室温密闭保存。